产品名称: 北京中惠普TH-300氢气发生器
型号:TH-300
氢气发生器结构:
同系列产品技术参数:
型号 | 流量 | 仪器特点 |
DH-300 | 0-300ml/min | 全自动控制,不存储氢气,有水位、超压的安全装置,纯度99.99999% |
DH-500 | 0-500ml/min | |
TH-300 | 0-300ml/min | 采用的离子膜制氢技术,无需加碱,直接电解纯水(去离子水、二次蒸馏水),优点:不污染色谱的任何部件。纯度:优于99.999%,压力:0-0.4MPa |
TH-500 | 0-500ml/min | |
TH-1000 | 0-1000ml/min | |
SPH-200 | 0-200ml/min | 体积小,重量轻,单过滤,压力0.3MPa,自动防返碱,纯度99.999% |
SPH-300A | 0-300ml/min | 单不锈钢过滤器,压力0.4MPa,自动防返碱,纯度99.999% |
SPH-300 | 0-300ml/min | 两不锈钢过滤器,内有微量氧脱除剂(不需活化),纯度更高,压力0-0.4MPa,0-0.6MPa两档可调,自动防返碱,纯度99.999% |
SPH-500A | 0-500ml/min | 单不锈钢过滤器,压力0.4MPa,自动防返碱,纯度99.999% |
SPH-500 | 0-500ml/min | 两不锈钢过滤器,内有微量氧脱除剂(不需活化),纯度更高,压力0-0.4MPa,0-0.6MPa两挡可调,自动防返碱,纯度99.999% |
GCD-1000 | 0-1000ml/min | 大流量,可同时带多台色谱,自动防返碱,纯度99.999% |
GCD-3000 | 0-3000ml/min | 安全可靠,自动流量跟踪,用于中心实验室集中供氢,可用于石化、半导体等行业 |
GCD-6000 | 0-6000ml/min | 安全可靠,自动流量跟踪,用于中心实验室集中供氢,可用于石化、半导体等行业 |
GCD-9000 | 0-9000ml/min | 安全可靠,自动流量跟踪,用于中心实验室集中供氢,可用于石化、半导体等行业 |